该申请人涉及专利文献:1149,涉及专利:774件
覆盖主要的IPC大类包括:H01(248)、G01(113)、B24(87)、F16(48)、G03(46)、B08(45)、B25(40)、G05(39)、B28(37)、G02(37)
专利类型分布状况:发明公开(707)、实用新型(52)、发明申请(11)、外观设计(4)
专利不同法律状态数据分布状况:有效专利(276)、失效专利(167)、无效专利(156)、实质审查(151)、公开(24)
该领域主要的发明人有:陶利权(50)、陈苏伟(24)、刘永进(19)、左宁(14)、高慧莹(13)、杨师(12)、姚立新(11)、种宝春(10)、张世强(9)、杨志(9)
详细地址:中国 北京市 大兴区 北京市大兴区北京经济技术开发区泰河三街 1号 100176
| 专利类型 | 专利名称 | 文献号 |
|---|---|---|
| 发明授权 | 一种基于曝光剂量控制系统的曝光剂量控制方法 | CN114578658B |
| 发明公开 | 光学系统的光孔直径调节机构及光学系统 | CN121578424A |
| 发明授权 | 一种半导体测试用的工件台 | CN116690507B |
| 发明公开 | 双频激光光束指向角偏差的检测装置、方法、设备及介质 | CN121521029A |
| 发明公开 | 高面形精度的无应力支撑镜框、光学组件及光学设备 | CN121500532A |
| 发明授权 | 一种确定位置偏差的方法及系统 | CN114649244B |
| 发明授权 | 一种手持式振源模拟装置 | CN116465581B |
| 发明公开 | 一种晶圆形貌高度的测量方法及测量装置 | CN121252662A |
| 发明公开 | 一种掩模对准系统的对准方法以及掩模对准系统 | CN121209223A |
| 发明公开 | 一种用于高精度垂向传感器的标定装置 | CN121185347A |
| 排名 | 企业名称 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | 北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所) | 748 |
| 2 | 中国电子科技集团公司第四十五研究所 | 405 |
| 3 | 北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所) | 7 |
| 排名 | 发明人 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | 陶利权 | 50 |
| 2 | 陈苏伟 | 24 |
| 3 | 刘永进 | 19 |
| 4 | 左宁 | 14 |
| 5 | 高慧莹 | 13 |
| 6 | 杨师 | 12 |
| 7 | 姚立新 | 11 |
| 8 | 种宝春 | 10 |
| 9 | 张世强 | 9 |
| 10 | 杨志 | 9 |
| 排名 | 企业名称 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | 北京超凡宏宇专利代理事务所 | 304 |
| 2 | 北京中建联合知识产权代理事务所 | 274 |
| 3 | 北京超凡宏宇知识产权代理有限公司 | 230 |
| 4 | 石家庄新世纪专利商标事务所有限公司 | 177 |
| 5 | 北京超凡志成知识产权代理事务所 | 131 |
| 6 | 工业和信息化部电子专利中心 | 27 |
| 7 | 甘肃省专利服务中心 | 6 |
| 8 | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) | 4 |
| 9 | 北京连和连知识产权代理有限公司 | 4 |
| 10 | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) | 2 |
| 排名 | 代理人 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | 朱丽岩 | 223 |
| 2 | 高燕 | 89 |
| 3 | 董金国 | 82 |
| 4 | 严小艳 | 68 |
| 5 | 宋元松 | 60 |
| 6 | 张贰群 | 48 |
| 7 | 毕翔宇 | 39 |
| 8 | 刘湘舟 | 36 |
| 9 | 于彬 | 31 |
| 10 | 王术兰 | 27 |