ASML荷兰有限公司
该申请人涉及专利文献：5434，涉及专利：3519件
覆盖主要的IPC大类包括：G03(2836)、H01(1030)、G01(339)、G02(257)、H05(231)、G06(223)、G21(64)、G05(51)、F16(40)、H02(35)
专利类型分布状况：发明公开(3518)、实用新型(1)
专利不同法律状态数据分布状况：有效专利(1347)、实质审查(1215)、失效专利(574)、无效专利(216)、公开(167)
该领域主要的发明人有：H·巴特勒(59)、W·T·特尔(45)、A·J·登博夫(38)、任伟明(37)、王勇新(33)、J·洛夫(30)、A·J·布里克(29)、N·潘迪(26)、M·J-J·维兰德(25)、A·J·登鲍埃夫(22)
详细地址：荷兰 荷兰维德霍温
相关专利文献 (5434件)
| 专利类型 | 专利名称 | 文献号 |
|---|---|---|
| 发明公开 | 用于装载/卸载衬底的升降销组件、载物台、光刻设备 | CN121605359A |
| 发明公开 | 减少用于计算引导检查的工艺配方时间的多器件训练流程 | CN121586867A |
| 发明公开 | 用于半导体量测系统和方法的参考光栅 | CN121569243A |
| 发明公开 | 用于转换量测数据的方法 | CN121559816A |
| 发明公开 | 用于确定图案化衬底的关键区域的设备和方法 | CN121548772A |
| 发明公开 | 用于使用感兴趣点和信号在电压对比度检查期间提高生产量的系统和方法 | CN121533191A |
| 发明公开 | 用于将样品装载到样品位置的系统和方法 | CN121533187A |
| 发明授权 | 确定用于光刻相关图案的圆化轮廓 | CN115509084B |
| 发明授权 | 用于形成材料的经图案化的层的方法和设备 | CN115244211B |
| 发明公开 | 真空中原位晶圆温度测量方法和装置 | CN121511502A |
近10年该领域专利申请趋势
专利分类情况
IPC分类
核心专利文献
相关企业
| 排名 | 企业名称 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | ASML荷兰有限公司 | 5434 |
相关发明人
| 排名 | 发明人 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | H·巴特勒 | 59 |
| 2 | W·T·特尔 | 45 |
| 3 | A·J·登博夫 | 38 |
| 4 | 任伟明 | 37 |
| 5 | 王勇新 | 33 |
| 6 | J·洛夫 | 30 |
| 7 | A·J·布里克 | 29 |
| 8 | N·潘迪 | 26 |
| 9 | M·J-J·维兰德 | 25 |
| 10 | A·J·登鲍埃夫 | 22 |
相关代理机构
| 排名 | 企业名称 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 3318 |
| 2 | 北京市金杜律师事务所 | 1648 |
| 3 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 465 |
| 4 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 3 |
相关代理人
| 排名 | 代理人 | 专利 |
|---|---|---|
| 1 | 王波波 | 755 |
| 2 | 张启程 | 577 |
| 3 | 王茂华 | 507 |
| 4 | 王益 | 445 |
| 5 | 胡良均 | 420 |
| 6 | 吴敬莲 | 334 |
| 7 | 张宁 | 256 |
| 8 | 王静 | 249 |
| 9 | 王新华 | 239 |
| 10 | 郑振 | 235 |
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